PCB电镀酸铜添加剂的比较

     现今市面上的有售大量的酸铜添加剂，性能和质量参差不齐。
1. 填平能力的概念   酸铜添加剂的填平性能是很多客户选用时的首要考虑条件。一些经验不足的技术员喜欢打赫氏片以确定酸铜的性能；但酸铜填平度在抛光黄铜片的表面是不容易比较出来的。一般而言，无论德，日本或者产的酸铜光亮剂，能够在抛光黄铜片上起到鱼纹状打气纹，即可初步判断出其有一定的填平能力。但这种条纹状的打气纹是否在高中低位都有，就是酸铜填平能力的另一层表现。如果不能在中低位有出色的填平，这种酸铜光亮剂的在做货时，对复杂工件的出光速度将是极有影响的。得天化工的德酸铜CU810和日本酸铜CU210都能够提供极佳的高中低位的极佳填平度。

2. 酸铜填平的原理   含氮，长链高分子化含物（如酸铜A剂中的红，黑，紫，蓝染料等）都是填平剂的佳选择，但如果没有氯离子和含硫化学物的情况下，再多的填平剂也是无任何填平效果的，因此，镀液中的氯离子需要定期分析，这是酸铜填平的基础力量。而含硫化学物在德体系的酸铜光亮剂中一般分布在B剂或开缸剂中。过多的含硫化合物，镀层容易发雾，特别是低电流密度区。而不足量的硫化物，会导致光亮度和填平度（特别是低位填平度）一齐下降。因此，当酸铜镀液的填平能力出问题的时候，不要一直盲目地加A加A，可考虑B剂和开缸剂是否不足又或者过量呢？消耗量的提升，是老板不愿意看到的。只要协调得好，无论日本、德，又或者产的酸铜产品，都能力提供极佳的填平能力。
 
3. 酸铜光亮的原理   光亮是镜面反射的物理表现，从微观上看，就是镀层结晶极为微细，以致在局部形成一张张地小镜子。基础的光亮剂就是聚乙二醇等表面活性剂（开缸剂的主要成分），当这类物质不足时，镀层的整体光亮性将大打折扣；润湿性的不足也令镀层的低电流区域不光亮，针孔麻点等也会因此而产生。但光亮不等于填平，光亮只是晶粒细化所造成的镜面反射。填平的效果是对不平整工件表面的抚平，使伤痕变得理整。

4. 关于德系酸铜的雾和砂   典型的酸铜添加剂，安美特ULTRA（前称：510）是极受客户好评的酸铜产品。但打片时，ULTRA的高中电流密度区可以见到非常多的“雾”（有的同行称为“砂”）。这种雾和砂在开大缸时，做货是没有问题的，再经过连续过滤，电解，就会在以后的打片中继续消失。由于安美特的技术服务和销售人员非常到位的服务客户，因此很多客户也不用明白其中的道理。但很多内小公司的酸铜产品（多数是进口分装或者代理他人的）在客户中就不能理解，甚至打片的时候已经大骂这产品怎么这样子？！这些小公司的技术人员也不知如何解释。其实这种雾和砂，需要在实质生产中才能体现其真实的表现。打片只是一种对添加剂含量分析和性能的测试方法，多数的这种雾和砂在下缸后就再也看不到。也是这种原因，可能会在镀完酸铜之后，如不及时水洗，会出现蓝膜的现象，但这种雾或者膜都会在镀镍之后完全消失。这种雾和砂，根据得天化工的德供应商技术人员解释，是A剂中的染料，以及开缸剂中的表面活性剂的分子量较大所造成的。总得来说，雾和砂是酸铜高填平的中间体所带来的负面效果，虽然大家都不愿意，但为了得到极高的填平度，这是必须去理解的。

5. 关于稳定性   普通的市场认识：德的酸铜光亮剂的稳定性比起日本的酸铜光亮剂稳定性高。其实，这个结论是相当局限的。所谓稳定性，如何理解？德酸铜由于体系的优越性，对A，B，开缸都有较高的容忍性，多加不发黑。因此在电镀厂的师傅手中，就养成了一种“坏习惯”，当使用到一个添加剂，加多A，低区就漏镀，加多B，低区就发雾，做多几次，就翻缸了，要吸炭了。这种光剂就被定义为“不稳定”。这种稳定性，根本不是产品造成的，而是控制人员的能力不足造成的。一个有经验的技术员，就会如何控制添加剂的消耗量，做到又节省，效果又好。经得天化工专业技术工程师测试所知，得天化工的CU210的填平能力和消耗量与CU810是基本持平的。不过CU210的光剂容忍能力不及CU810，加入A太多之后或者B太多之后，容易出现故障，但如果合理控制，CU210将是经济实惠的选择，适合有经验的电镀厂选择。而德体系的CU810光剂容忍性高，适合于控制能力较差的电镀厂，但价格相对CU210要贵一点。得天化工的CU810是向安美特ULTRA看齐的高性能产品。

6. 产品价格和消耗量   对于产品价格，很多同行都抱怨，很多客户对价格非常地敏感。不用试样品，就说哪里哪里的便宜多少。在这里，希望大家选择任何工业品或者生活用品都先试一下，再说价格。如果小商小贩都单凭价格的优势，先收一笔是一笔，那试问，客户会回头要货吗？其实，一个好的产品，客户能够主动地回头找你，那不是更重要？消耗量是除了产品性能（填平能力和稳定性）之外，决定酸铜产品档次的又一重要指标。酸铜的消耗量，一方面与产品的配方的优良与否，另一方面就是产品中除了水之外的有效净含量多少。便宜没好货在电镀市场上也是充分地验证的。便宜的产品，要不是配方不稳定，要不就是产品有效成分净含量低。有经验的技术人员选择光剂时，打一张赫氏片就已经能够看出光剂的消耗量了。

7. 不要忽视温度的影响 对于酸铜电镀工艺，冷却设备是非常地必要的。温度从25度升高30度之后，A剂的消耗量可以上升一倍。在28度开始打消耗片的话，安美特ULTRA的二片就已经出现了低区发雾的情况。因此，很多做打片试验的技术人员没有注意这个重要的因素，在夏天和冬天，这是完全不一样的消耗量的。 有条件的实验情况下，好有冷却的水浴打片同，当然生产线上，把温度控制在24度左右，对整个光剂的稳定和消耗量，都极有好处。